Nach High-NA kommt Hyper-NA: ASML und Zeiss skizzieren Chip-Belichtung der 2030er
Ingenieure von ASML und Carl Zeiss beschreiben eine Nachfolgetechnik für die modernsten Chip-Belichtungsanlagen. Sie könnte um 2036 bereitstehen – gebaut wird sie aber noch nicht.
Archivbild · Foto: A ansems / Wikimedia Commons, Public domain (zugeschnitten und skaliert)
Der niederländische Maschinenbauer ASML und sein Optikpartner Carl Zeiss denken bereits über die übernächste Generation der Chip-Lithografie nach. In einem am 8. Oktober veröffentlichten Fachartikel beschreiben Ingenieure beider Unternehmen eine Plattform namens Hyper-NA. Sie soll auf die heutigen High-NA-EUV-Anlagen folgen und Strukturen drucken können, die um mehr als ein Drittel kleiner sind als mit den aktuellen Maschinen. Je kleiner die Strukturen, desto mehr Transistoren passen auf einen Chip.
Bis dahin ist es allerdings ein weiter Weg: Nach dem Bericht des Finanzportals TradingKey könnte die Plattform um das Jahr 2036 herum bereitstehen, eine Entscheidung über die Produktion ist aber noch nicht gefallen. Kurzfristig sei Hyper-NA deshalb kein nennenswerter Wachstumstreiber, langfristig könne die Technik den Vorsprung von ASML jedoch weiter absichern. Die Vorgängergeneration ist bereits im Einsatz: Intel nutzt High-NA-EUV-Anlagen für ausgewählte Schichten seines Fertigungsprozesses 18A. Nach Angaben von ASML und Intel wurden mit der Technik in Tests, Entwicklung und Produktion bereits mehr als eine Million Siliziumscheiben bearbeitet.