След High-NA идва Hyper-NA: ASML и Zeiss очертават литографията за чипове през 2030-те
Инженери на ASML и Carl Zeiss описват технология наследник на най-модерните машини за експониране на чипове. Тя може да е готова около 2036 г., но все още не се произвежда.
Архивна снимка · Снимка: A ansems / Wikimedia Commons, Public domain (изрязана и мащабирана)
Нидерландският машиностроител ASML и неговият партньор за оптика Carl Zeiss вече мислят за по-следващото поколение литография за чипове. В специализирана статия, публикувана на 8 октомври, инженери от двете компании описват платформа на име Hyper-NA. Тя трябва да наследи днешните High-NA EUV машини и да отпечатва структури, които са с повече от една трета по-малки, отколкото с настоящите системи. Колкото по-малки са структурите, толкова повече транзистори се побират в един чип.
Пътят дотам обаче е дълъг: според доклад на финансовия портал TradingKey платформата може да е готова около 2036 г., но решение за производството ѝ все още не е взето. Затова в краткосрочен план Hyper-NA не е съществен двигател на растежа, но в дългосрочен план технологията може допълнително да затвърди преднината на ASML. Предишното поколение вече се използва: Intel прилага High-NA EUV машини за избрани слоеве на производствения си процес 18A. Според ASML и Intel с тази технология вече са обработени над един милион силициеви пластини при тестове, разработка и производство.